Povlakování - PVD a PACVD

Fyzikální vauková depozice (PVD) a plazmou podporovaná chemická vakuová depozice (PACVD) jsou technologie přívětivé pro životní prostředí zahrnující depozici materiálu na povrchu dílců, které jsou zpracovávány.

Vrstvy získané touto technologií mohou mít tyto základní vlastnosti:

• tloušťku od několika nanometrů až po desítky mikrometrů
• tvrdost od 1000 do 4000 HV

V závislosti na zvoleném povlaku, mohou zpracovávaným dílcům poskytnout:

• tribologické vlastnosti: velmi nízký koeficient tření
• mechanické vlastnosti: velmi vysokou tvrdost
• elektrické odstínění
• optické vlastnosti
• elektrickou vodivost
• antibakteriální vlastnosti
• dekorativní vlastnosti

Tento proces probíhá ve evakuované komoře, v které se vytváří plazma. Společnost HEF využívá 3 postupů k vývoji plazmy a tvorbě vysoce kvalitních vrstev:

• PEMS®

PEMS® dovoluje vytvářet velmi hutné, kompaktní vrstvy pro tribologické použití. Tento proces se používá speciálně pro tvorbu vrstev s nízkým koeficientem tření a vrstev s vysokou tvrdostí. Navíc technologie PEMS® umožňuje modifikovat tvrdost, hustotu a odolnost vrstvy tak, aby vrstva vyhověla dané aplikaci.

• CAM®

Technologie CAM® umožňuje depozici tvrdých vrstev s velmi nízkým koeficientem tření při velmi nízkých teplotách.

• M-ARC®

Společnost vyvinula řadu povlaků, které pokrývají velmi širokou oblast palikací tenkých vrstev: 

• Snížení třění a otěru: CERTESS™ CARBON
• Zvýšení žiuvotnosti mechanických součástí: CERTESS™ NITRO
• Elektromagnetické stínění na polymerech: PROCEM™
• Ochrana proti korozi z hliníku: CORRALU™ V
• Ochrana proti erozi: CERTESS™ BLAST
• Další povrchové vlastnosti: optická aplikace, dekorativní aplikace, zejména na velmi rozměrných dílcích